IC制程_浙江中矽半导体材料有限公司 

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产品名称
牌号
用途
负性光刻胶剥离液
ZX PS-650
用于负性光刻胶湿法剥离工艺
墨点去除液
ZX IR-659
用于探测墨点的清洗去除工艺
Post Etch/ash remover Al
ZX R-655
用于铝工艺布线干法蚀刻后,线路侧壁的清洗工艺
Post Etch/ash remover Cu
ZX R-656
用于铜工艺干法蚀刻后,双大马士革沟槽的清洗工艺
Post CMP cleaner
ZX C-657
用于化学机械平坦化工艺后,晶圆表面的清洗工艺


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